微著半导体申请晶圆外延层载流子浓度测试系统及测试方法专利保障精度稳定

2026/02/09

　　国家知识产权局信息显示，微著半导体科技（苏州）有限公司申请一项名为“一种晶圆外延层载流子浓度测试系统及测试方法”的专利，公开号CN121432110A，申请日期为2025年9月。

　　专利摘要显示，本发明公开一种晶圆外延层载流子浓度测试系统及测试方法，测试系统包括汞CV测试装置、上料片盒、校准片盒、机械手与寻边器；探针连正负压系统，用于汞液转移和测试，寻边器实现样品/校准片精准定位；工作时，机械手将样品经寻边器定位后送汞CV测试装置检测，完成后送回上料片盒；定期送校准片检测，测算平均值与重复性，偏差时通过校准测试系统计算公式输入的接触面积，异常则停机。本系统和方法实现测试全自动化，降低人力与晶圆损坏风险，保障测试精度稳定，适配半导体量产需求。

　　天眼查资料显示，微著半导体科技（苏州）有限公司，成立于2020年，位于苏州市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本1000万人民币。通过天眼查大数据分析，微著半导体科技（苏州）有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目4次，财产线条，此外企业还拥有行政许可3个。

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